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ケイ酸ハフニウム(IV)(Hafnium(IV) silicate、HfSiO4)は、ハフニウムのケイ酸塩である。 ケイ酸ハフニウムとケイ酸ジルコニウムの薄膜は化学気相成長法(主にMOCVD)によって作られ、半導体材料である二酸化ケイ素に代わる高誘電率誘電体(high-k dielectric)として使うことができる。 == 関連項目 == * 塩化ハフニウム(IV) * ケイ酸ジルコニウム(IV) 抄文引用元・出典: フリー百科事典『 ウィキペディア(Wikipedia)』 ■ウィキペディアで「ケイ酸ハフニウム(IV)」の詳細全文を読む スポンサード リンク
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