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酸化ガリウム(III)（さんかガリウム）は化学式Ga2O3で表される無機化合物である。化学気相成長法によって半導体素子の合成の一部に用いられる〔金子 健太郎, 野村 太一, 福井 裕, 藤田 静雄, “ミストCVD法によるコランダム型構造酸化物半導体薄膜の作製と評価”, 材料, Vol. 59, No. 9, pp.686-689 (2010) 〕。 ==合成== 酸化ガリウム(III)は酸性もしくは塩基性のガリウム塩溶液を中和することによって沈殿として得られる。また、金属ガリウムを空気中で加熱したり、200-250 ℃で硝酸ガリウム(III)を熱分解させることによっても得られる。酸化ガリウム(III)はα、β、γ、δ、εの5つの異なる形を取る。これらの内、β-酸化ガリウム(III)が最も安定な形である〔Bailar, J; Emeléus, H; Nyholm, R; Trotman-Dickenson, A. Comprehensive Inorganic Chemistry. 1973, 1, 1091〕。 * β-Ga2O3は硝酸ガリウム(III)、酢酸ガリウム(III)、シュウ酸ガリウム(III)その他ガリウム(III)の有機誘導体を1000 ℃で加熱することによって得られる。 * α-Ga2O3はβ-Ga2O3を65 kbar、1100 ℃で1時間加熱することで得られる。水和物は水酸化ガリウムを500 ℃で分解することによって得られる。 * γ-Ga2O3は水酸化ガリウムのゲルを400から500 ℃で急速に加熱することで得られる。 * δ-Ga2O3は硝酸ガリウム(III)を250 ℃で加熱することによって得られる。 * ε-Ga2O3はδ-Ga2O3を550 ℃で30分間加熱することによって得られる〔。 抄文引用元・出典: フリー百科事典『 ウィキペディア（Wikipedia）』 ■ウィキペディアで「酸化ガリウム(III)」の詳細全文を読む スポンサード リンク
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